উচ্চ স্তরের উপাদান সিলিকন ধাতু 553

সৌর কোষের জন্য সিলিকন তৈরিতে, বোরন এর চেয়ে আগের চেয়ে আরও দ্রুত সরানো যেতে পারেসিলিকন ধাতু 553সিলিকন ধাতুর পরিশোধন পদ্ধতি। অন্য কথায়, গলিত সিলিকন ধাতুতে যুক্ত জলীয় বাষ্পের সাথে আরগন গ্যাসের সমন্বয়ে গঠিত একটি প্লাজমা স্ট্রিম সিলিকন ধাতুতে থাকা বোরন অপসারণের জন্য গলিত তরল পৃষ্ঠের উপরে ইনজেকশন দেওয়া হয় এবং একটি হ্রাসকারী গ্যাস আরও প্লাজমা প্রবাহে যুক্ত করা হয়। জলীয় বাষ্পের মিশ্রণ অনুপাত/গ্যাস, গ্যাস ইনজেকশন কোণ এবং হিটিং পদ্ধতি হ্রাস করার মিশ্রণ অনুপাতটি সঠিকভাবে সামঞ্জস্য করে বোরনকে আরও কার্যকরভাবে অপসারণ করা যেতে পারে।

1.মো-ভিত্তিক সলিড সলিউশন (শ্যাওলা) কঠোর MO2NI এবংসিলিকন ধাতু 553পরিধান-প্রতিরোধী উপকরণগুলি লেজার গলে ডিপোজিশন টেকনোলজি দ্বারা প্রস্তুত করা হয়েছিল এবং 400 ~ 550 ডিগ্রির পরিসীমাতে খাদটির পরিধানের বৈশিষ্ট্যগুলি একটি পিন-ডিস্কের ঘর্ষণ এবং পরিধানের পরীক্ষার মেশিনে মূল্যায়ন করা হয়েছিল এবং পরিধানের পৃষ্ঠ এবং উপ-পৃষ্ঠের উপগ্রহের রূপচর্চা ইলেক্ট্রন মাইক্রোস্কোপি স্ক্যান করার সাহায্যে পর্যবেক্ষণ করা হয়েছিল। শ্যাওলা শক্ত হওয়া MO2NI3SI ধাতব সিলিসাইড অ্যালো উচ্চ তাপমাত্রার স্লাইডিং অবস্থার অধীনে একটি অস্বাভাবিক পরিধানের হার-তাপমাত্রার সম্পর্ক প্রদর্শন করে, অর্থাত্, পরিধানের হার তাপমাত্রার বৃদ্ধির সাথে হ্রাস পায় এবং এর পরিধানের পৃষ্ঠটি মসৃণ এবং সমতল, মাইক্রোকুটিং এবং ফুরোয়িংয়ের বৈশিষ্ট্য ছাড়াই, এবং শ্যাওলা ডেনড্রাইটগুলি পরীক্ষার তাপমাত্রায় কিছুটা জারণযুক্ত হয়। ধাতব সিলিসাইড এমও 2 এনআই 3 এসআই পরিধানের প্রক্রিয়াতে একটি বিরোধী পরিধানের ভূমিকা পালন করে এবং ভাল দৃ ness ়তার সাথে শ্যাওলা ডেনড্রাইটগুলি কার্যকরভাবে এমও 2 এনআই 3 এসআই ম্যাট্রিক্সের ক্র্যাক প্রচার এবং মাইক্রোস্কোপিক স্পেলিংকে বাধা দিতে পারে। উচ্চ-তাপমাত্রার স্লাইডিং শর্তগুলির অধীনে খাদটির প্রধান পরিধানের প্রক্রিয়াগুলি হ'ল নরম ক্ষয়কারী পরিধান এবং শ্যাওলা পর্বের সামান্য জারণ।

গরম ট্যাগ: উচ্চ স্তরের উপাদান সিলিকন ধাতু 553, চীন উচ্চ স্তরের উপাদান সিলিকন ধাতু 553 উত্পাদনকারী, সরবরাহকারী, কারখানা